H200 技术

内部 Airflow 技术

耳罩的结构和材料均经过精细考量,设计也已申请专利,有望成为其他音频重制的参考级别。

适当调节的低音响应

得益于优质材料和专家设计的结合,我们开发出已申请专利的内部气流技术。 此特殊结合能为低音响应适当调节,帮助提升整体的性能基准。

先进的声学调整

以经适当校准的 S系列扬声器作为我们的出发点,H200 的声学指纹是通过多轮用户感知和声学优化测试打造而成的。 最后的耳机成品才能和最先所构想的如出一辙。